Sur le plan de production, c’est lors de l’étape de nettoyage post-procesus que le rendement peut diminuer en quelques minutes à peine. La wafer sort du processus de nettoyage avec une légère rugosité à sa surface, ainsi qu’une certaine quantité d’humidité encore présente sur cette même surface. Si la température de séchage n’est pas précisément contrôlée, les solvants restent présents, l’adhérence du photorésiste diminue, et le contrôle des dimensions critiques devient difficile. Nous avons donc conçu un chauffage infrarouge pour les wafers après nettoyage, afin d’éliminer ces variations.
Ce qui est important sur le plan technique L’appareil utilise des émetteurs infrarouges à ondes courtes, intégrés dans un module en quartz. Cela permet une chauffe rapide et localisée de la surface de la wafer, sans que la chambre ne soit trop chaude. La uniformité de la température sur toute la surface de la wafer reste inférieure ou égale à ±0,1 °C, quel que soit la température de séchage (de 80 °C à 250 °C). Le temps de réponse est inférieur à 3 secondes, ce qui permet de maintenir un contrôle précis de la température.
La compatibilité avec les salles propres est assurée : les matériaux utilisés respectent les normes Classe 1–100, les surfaces sont électropoliées, et le système de ventilation empêche toute génération de particules en régime permanent. Le contrôle se fait en boucle fermée, grâce à un pyromètre calibré et à un système de stockage des paramètres de traitement, ce qui garantit la reproductibilité d’un lot à l’autre.
Pourquoi cet appareil fonctionne bien en production Une fois la wafer placée dans l’appareil après nettoyage, le chauffage atteint immédiatement la température nécessaire pour le traitement. Cela permet de réduire le temps de traitement sans risque de dépassement de température. La consommation d’énergie est adaptée à la charge, ce qui signifie que la consommation est inférieure à celle des méthodes de chauffage par plaques chauffantes.
La fiabilité de l’appareil est telle qu’il peut fonctionner 24/7. Les données de terrain montrent que le temps d’arrêt imprévu est inférieur à 0,1 % après des milliers de cycles de séchage. Cela signifie moins de retouches, une conformité constante aux spécifications, et un débit de production fiable.
Ce à quoi il faut penser avant l’installation L’installation se résume à s’assurer que la taille des conduits de ventilation est adaptée, ainsi qu’à vérifier la classe de tension requise pour l’appareil. L’appareil est compact, mais il faut néanmoins prévoir suffisamment d’espace autour de la fenêtre d’émission pour assurer un flux d’air correct et une température stable.
Le transfert des paramètres de traitement est simple pour les traitements standards. Pour les intégrations personnalisées, il peut être nécessaire de disposer d’un délai de mise en service pour ajuster le profil thermique en fonction des besoins du photorésiste et des produits de nettoyage utilisés.