Mengapa kita menggunakan reflektor berlapis emas untuk pemanasan dalam vakum
Jika Anda pernah bekerja dengan proses pengolahan wafer di dalam ruang vakum, Anda pasti tahu betapa menyebalkannya pemborosan energi yang terjadi. Sebagian besar energi dari sumber pemanas tersebut hilang begitu saja ke dinding ruang vakum. Itu merupakan pemborosan listrik, dan yang lebih penting lagi, itu juga merupakan pemborosan waktu.
Itulah mengapa kita menggunakan emas.
Keunggulan lapisan emas
Kebanyakan orang memulai penggunaan reflektor berbahan aluminium. Namun, masalahnya adalah aluminium menyerap terlalu banyak energi inframerah. Emas berbeda; ia sangat efektif dalam memantulkan sinar inframerah kembali ke arah yang seharusnya.
Ketika kita memasukkan lampu IR berkepadatan tinggi ke dalam rongga yang dilapisi emas, reflektor tersebut akan mendorong energi tersebut ke arah target yang diinginkan. Dengan demikian, kita mendapatkan pancaran panas yang lebih intens. Yang terbaik adalah, kita dapat memperoleh panas yang lebih banyak pada wafer, tanpa perlu meningkatkan daya suplai listrik atau membebani sistem listrik.
Masalahnya: Panas di kondisi vakum
Memanaskan benda di kondisi vakum merupakan hal yang sulit, karena tidak ada udara yang dapat membantu mengalirkan panas. Semua proses terjadi melalui radiasi.
Hal ini berarti lampu-lampu tersebut bisa menjadi sangat panas, dan hal ini terjadi dengan cepat. Kita merancang sistem ini sedemikian rupa agar banyak wattage dapat dimasukkan ke dalam ruang yang kecil. Namun, kita harus berhati-hati. Kita tidak boleh mengabaikan sistem pendinginan. Jika sistem pendinginan berbasis air terlalu kecil atau gagal berfungsi, maka lapisan pelindungnya akan rusak, atau石英 envelope-nya akan terbakar. Ini merupakan keseimbangan yang sangat penting.
Membuatnya berfungsi dengan baik
Kami merancang pemanas ini agar mudah digunakan. Pemanas ini seharusnya bisa dipasang langsung ke sistem vakum yang sudah ada, tanpa menimbulkan masalah.
Karena energinya sangat terfokus, wafer akan panas lebih cepat. Selain itu, suhu di seluruh permukaan wafer akan seragam. Tidak perlu lagi khawatir tentang adanya titik-titik panas yang dapat merusak substrat wafer.
Pada dasarnya, semuanya berkaitan dengan prinsip fisika yang sederhana. Refleksi yang lebih baik berarti lebih sedikit pemborosan energi, dan lebih sedikit pemborosan energi berarti proses produksi dapat diselesaikan lebih cepat.