Di lini produksi, tahap pembersihan setelah proses pengolahan merupakan fase di mana kualitas wafer bisa menurun dalam waktu singkat. Wafer yang keluar dari proses pembersihan masih memiliki permukaan yang sedikit kasar, serta kelembapan yang masih tersisa di permukaannya. Jika suhu yang digunakan untuk proses pemanggangan tidak tepat, zat pelarut akan tetap berada di permukaan wafer, adhesi lapisan fotoresist pun akan terganggu, dan kontrol dimensi kritis wafer pun menjadi tidak akurat. Kami menciptakan pemanas inframerah khusus untuk tahap pembersihan ini, agar variabilitas tersebut dapat dikurangi.
Yang penting secara teknis:
Pemanas ini menggunakan emitor inframerah gelombang pendek yang terletak dalam modul berbahan kuarsa. Suhu yang dihasilkan sangat cepat, sehingga permukaan wafer menjadi hangat tanpa perlu memanaskan seluruh ruang pembakaran. Di seluruh permukaan wafer, keseragaman suhu tetap terjaga pada kisaran ±0,1°C, mulai dari suhu 80°C hingga 250°C. Waktu responsnya kurang dari 3 detik, sehingga penggunaan energi tetap terkendali.
Kompatibilitas dengan ruang bersih juga terjamin: bahan-bahan yang digunakan sesuai standar kelas 1–100, permukaan yang telah diproses secara elektropolishing, serta sistem pengeluaran udara yang efektif sehingga tidak ada partikel yang terbentuk selama proses berlangsung. Kontrolnya dilakukan secara tertutup, dengan menggunakan pirometer yang sudah dikalibrasi, sehingga hasil produksi tetap konsisten dari batch ke batch.
Mengapa sistem ini efektif dalam produksi:
Setelah wafer dibersihkan, pemanas akan menghasilkan suhu yang tepat untuk proses pemanggangan. Waktu yang diperlukan untuk proses pemanggangan menjadi lebih singkat, tanpa adanya peningkatan suhu yang berlebihan. Konsumsi energinya juga lebih rendah dibandingkan metode pemanggangan menggunakan piring panas konvensional.
Keandalan sistem ini dirancang untuk operasi 24/7. Data lapangan menunjukkan bahwa waktu henti yang tidak direncanakan kurang dari 0,1% selama ribuan siklus pemanggangan. Hal ini berarti ada lebih sedikit kesempatan untuk melakukan proses perbaikan, hasil produksi tetap sesuai spesifikasi yang ditentukan, dan kapasitas produksi pun dapat diandalkan.
Apa yang perlu dipersiapkan:
Proses pemasangan hanya melibatkan penyesuaian ukuran saluran pembuangan udara dan memastikan tegangan yang digunakan sesuai dengan spesifikasi peralatan. Pemanas ini berukuran kompak, tetapi masih diperlukan ruang kosong di sekitar lubang emitor agar aliran udara tetap lancar dan suhu tetap stabil.
Transfer resep proses pemanggangan relatif mudah untuk proses standar. Namun, untuk integrasi khusus, mungkin diperlukan waktu penyetelan singkat agar profil termalnya sesuai dengan spesifikasi lapisan fotoresist dan proses pembersihan yang digunakan.