Pada proses pembersihan dan pengeringan, jejak air serta perubahan profil resistensi tidaklah merupakan hal yang bersifat teoretis saja—hal tersebut justru dapat merusak kualitas wafer. Kami telah menciptakan lampu inframerah tahan air untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut selama proses pengeringan wafer dan tahap-tahap termal yang berikutnya.
Apa yang penting dalam sistem ini? Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang berada dalam wadah tertutup yang mudah dibersihkan. Cara pemanasan ini bersifat langsung, tanpa kontak fisik, sehingga proses pemanasan berlangsung dengan cepat. Dengan demikian, suhu di permukaan wafer tetap stabil dalam rentang ±0,1°C sepanjang proses produksi. Hal ini memungkinkan profil pemanasan tetap konsisten. Proses peningkatan suhu berlangsung secara cepat namun terkendali, sehingga energi yang digunakan tetap efisien. Lampu ini juga cocok digunakan di ruang kerja berkualitas tinggi (kelas 1–100), karena tidak menghasilkan partikel apa pun—tidak ada pelepasan gas, tidak ada kerusakan pada permukaan wafer.
Mengapa sistem ini cocok untuk digunakan dalam produksi? Selama proses pembersihan hingga pengeringan, sinar inframerah memanaskan permukaan wafer secara langsung, sehingga tegangan permukaan berkurang dan proses penguapan berlangsung lebih cepat. Akibatnya, jejak air berkurang, kepadatan cacat menurun, dan tingkat keberhasilan produksi meningkat.
Dalam proses litografi, respons termal yang terkendali ini memastikan suhu pemanasan tetap konstan, sehingga profil dinding samping wafer tetap stabil. Sistem ini juga mampu menjaga stabilitas kondisi produksi. Unit-unit ini telah beroperasi selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan kualitas produk kurang dari 5%. Dengan demikian, Anda tidak perlu sering mengganti lampu. Karena energi digunakan langsung pada wafer, bukan pada ruang produksi, maka penggunaan energinya lebih efisien dibandingkan dengan oven konvensional.
Detail-detail yang membuat sistem ini efektif: Pemasangan lampu dilakukan sesuai dengan geometri jalur produksi dan ukuran modul pembersihan, termasuk jarak antara nozzle dan komponen lainnya. Segel tahan air dan lapisan pelindungnya sangat kuat, tetapi bahan kimia yang digunakan untuk pembersihan masih dapat mengurangi umur pakai lampu. Pastikan untuk merencanakan interval penggantian lampu yang tepat, serta memastikan kompatibilitas bahan kimia tersebut dengan peralatan yang digunakan.
Pastikan spektrum dan intensitas cahaya yang dihasilkan oleh lampu sesuai dengan karakteristik fotoresist yang digunakan. Jika panas yang diberikan terlalu besar atau terlalu cepat, hal tersebut dapat merusak permukaan fotoresist dan menyebabkan penumpukan bahan kimia di permukaannya.