근적외선(NIR) 방출버블

팹 내에서는 포토레지스트를 가열할 때 발생하는 온도 변동이 단순한 이론적 문제가 아닙니다. 이러한 온도 변동은 선의 굵기 변화나 생산 효율 저하로 나타납니다. 기존의 가열 장치들은 온도 상승 속도를 조절하는 데는 효과적이지만, 웨이퍼의 가장자리 부분과 같은 지역적인...