Pada peringkat pengeringan wafer sebelum proses litografi, faktor-faktor seperti sisa bahan fotorezist, kesan air, dan masalah berkaitan tepi wafer boleh mempengaruhi kualiti hasil kerja. Kebanyakan masalah ini berpunca daripada perubahan suhu yang tidak stabil, kawalan suhu yang lemah, atau zarah-zarah yang terlepas dari alat tersebut. Kami telah mencipta pemanas khusus untuk tujuan pengeringan ini, agar faktor-faktor tersebut dapat dielakkan.
Apa yang penting di sebaliknya
Alat ini menggunakan unsur inframerah gelombang pendek serta reka bentuk termal yang canggih, sehingga membolehkan suhu di seluruh permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Ketepatan suhu pula ialah ±0.2°C antara setiap batch pengeluaran. Ini memastikan proses pengeringan berjalan dengan lancar, sesuai untuk kerja-kerja yang memerlukan ketepatan tinggi.
Alat ini juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, kerana ia menggunakan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, sambungan yang tertutup rapat, serta sistem yang mencegah pelepasan zarah semasa operasi. Dalam sistem pengeluaran kami, pemanas ini beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan, dan penggunaan tenaganya disesuaikan agar sesuai dengan keperluan substrat Lab-on-a-Chip.
Mengapa ia sesuai untuk pengeluaran semikonduktor
Dalam proses pengeluaran Lab-on-a-Chip, masa yang diperlukan untuk pengeringan sangat singkat. Oleh itu, diperlukan proses pengeringan yang cepat, kawalan suhu yang tepat, dan proses yang tidak menyebabkan kontaminasi. Alat ini menggantikan kaedah lama menggunakan papan panas dan sistem IR lama dengan penyelesaian yang lebih efektif, yang memenuhi standard peralatan semikonduktor antarabangsa.
Kelebihannya adalah kawalan dimensi yang lebih tepat, kurangnya keperluan untuk melakukan ulangan proses, dan masa proses yang lebih konsisten. Apabila variasi suhu dapat dielakkan, masalah akibat pengeringan yang tidak sempurna akan berkurangan.
Butiran praktikal yang perlu dipertimbangkan
Untuk pemasangan alat ini, diperlukan bekalan kuasa 24 VDC yang stabil, serta sistem pengasingan yang baik. Jika terdapat alat yang sensitif terhadap gangguan elektromagnetik di sekitarnya, pastikan sistem pengasingan dilakukan dengan betul. Pemanas ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, tetapi jumlah haba yang diperlukan berbeza-beza bergantung pada jenis substrat. Oleh itu, pastikan kelajuan kenaikan suhu sesuai dengan keperluan substrat anda.
Kami menyediakan antaramuka standard untuk integrasi alat ini. Namun, jika menggunakan cara yang tidak standard, penggunaan alat khas diperlukan. Jika penyesuaian awal dilakukan dengan betul, prestasi alat ini akan menjadi konsisten, dan risiko kegagalan pengeluaran akan berkurangan.