Dalam proses pencucian dan pengeringan, kesan air serta perubahan profil lapisan resisten bukanlah sesuatu yang bersifat teori semata-mata – ia boleh merosakkan kualiti wafer tersebut. Kami telah membangunkan lampu inframerah yang tahan air untuk menghilangkan ketidakpastian dalam proses pengeringan wafer serta langkah-langkah termal yang berlaku selepasnya.
Apa yang penting dalam sistem ini
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang terletak di dalam kotak tertutup yang boleh dibersihkan. Suhu yang dihasilkan adalah konsisten, tanpa perlu sentuhan fizikal, dan ia memberikan kesan pemanasan yang cepat. Dengan cara ini, suhu wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C sepanjang proses pengeringan. Ini memastikan profil pemanasan tetap konsisten, sehingga hasil pemprosesan menjadi lebih baik. Proses peningkatan suhu dilakukan secara perlahan dan terkawal, agar tidak ada gangguan terhadap proses pengeringan. Lampu ini juga sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dan ia tidak menghasilkan sebarang zarah berbahaya, tiada pelepasan gas, dan tiada kotoran yang boleh merosakkan wafer.
Mengapa sistem ini efektif dalam produksi
Semasa proses pencucian hingga pengeringan, inframerah akan memanaskan permukaan wafer secara langsung, sehingga tegangan permukaan berkurangan dan proses penguapan berlangsung lebih cepat. Ini bermakna kurangnya kesan air pada permukaan wafer, kadar kecacatan yang lebih rendah, dan kadar kelulusan produk yang lebih tinggi. Dalam proses litografi, respons termal yang terkawal ini membantu mengekalkan suhu pemanasan yang konsisten, sehingga profil dinding sisi wafer tetap stabil. Sistem ini juga dapat beroperasi dengan stabil, kerana unitnya telah beroperasi selama 5,000 jam tanpa penurunan prestasi melebihi 5%. Ini bermakna kurangnya masalah yang timbul, dan kurangnya keperluan untuk menukar lampu. Selain itu, tenaga yang digunakan hanya dialirkan ke wafer sahaja, bukan ke seluruh ruang pengeringan, jadi penggunaan tenaga menjadi lebih efisien berbanding dengan oven konvektif.
Butiran yang memastikan sistem ini berfungsi dengan baik
Pemasangan lampu ini memerlukan penyelarasan yang tepat antara lampu tersebut dengan geometri landasan serta ukuran modul pencucian, termasuk jarak antara nozzle dan alat pengeringan. Penutup tahan air dan tingkap pelindungnya memang kuat, namun bahan kimia yang digunakan untuk pembersihan masih boleh merosakkan fungsi lampu tersebut. Oleh itu, perlu dirancang jadual penggantian lampu, dan pastikan bahan kimia yang digunakan sesuai dengan keperluan sistem. Spektrum cahaya dan kekuatan tenaga yang dihasilkan oleh lampu juga perlu disesuaikan dengan jenis photoresist yang digunakan. Jika suhu yang diberikan terlalu tinggi atau terlalu cepat, ia boleh merosakkan lapisan photoresist dan menyebabkan bahan kimia terperangkap di dalamnya.