Tijdens het spoelen en drogen wordt de oppervlakte van de chip rechtstreeks verwarmd door infraroodstraling. Hierdoor wordt de oppervlaktespanning verminderd en verloopt het verdampen sneller. Hierdoor hebben druppels geen kans om zich te vormen. Dit resulteert in minder watervlekken, een lagere concentratie defecten en een hogere opbrengst bij de eerste poging tot verwerking.
Bij lithografie zorgt deze gecontroleerde warmteafgifte ervoor dat de temperatuur tijdens het ‘soft bake’-proces constant blijft en dat de resultaten van het ‘hard bake’-proces herhaalbaar zijn. Hierdoor kan men beter controle uitoefenen op de afmetingen van de chip en zijn de randprofielen stabiel.
Het systeem werkt zeer betrouwbaar: de apparaten kunnen meer dan 5.000 uur lang draaien zonder dat de productie minder wordt dan 5%. Hierdoor zijn er minder problemen en moet er minder vaak worden vervangen. Omdat de energie rechtstreeks naar de chip gaat, in plaats van naar de kamer, wordt er minder energie gebruikt dan met conventionele ovens.
Voor een goed functionerend systeem moet de lamp goed passen in de geometrie van het apparaat en in de ruimte die beschikbaar is voor de sproeiers en andere onderdelen. De waterdichte afsluiting en het beschermende glas zijn sterk, maar oplosmiddelen en agressieve reinigingsmiddelen kunnen toch de levensduur van de lamp beperken. Plan daarom regelmatig vervangingen in en controleer of de chemicaliën compatibel zijn met het apparaat.
Het spectrum en de vermogensdichtheid van de lamp moeten overeenkomen met die van het fotoresterm materiaal. Als er te veel hitte wordt toegepast, kan dit schade toebrengen aan het fotoresterm materiaal en kunnen oplosmiddelen blijven hangen.