在冲洗阶段，水渍和光刻胶层厚度的变化并非理论上的问题——它们会直接导致整个生产过程的失败。因此，我们设计了防水型红外灯，以此消除晶圆干燥及后续热处理过程中的不确定性。
关键所在
我们使用密封式、可清洗的装置来放置短波红外发射器。这种加热方式是直线式、非接触式的，能快速加热晶圆。如此一来，整个处理过程中，晶圆表面的温度均匀性可保持在±0.1°C以内，从而确保光刻胶的软烘烤和硬烘烤过程能够重复进行。温度升高的速度很快且可控，这样既能有效去除溶剂，又能避免对晶圆造成损害。该灯具适合在1-100级洁净室中使用，且不会产生任何颗粒物，不会导致晶圆污染。
为何适用于生产流程
在从冲洗到干燥的过渡阶段，红外灯可直接加热晶圆表面，从而降低表面张力，加速水分蒸发，避免形成水滴。这样一来，水渍就会减少，缺陷率也会降低，首次加工的成功率则会上升。在光刻过程中，这种可控的加热方式还能保持软烘烤温度的稳定，从而使硬烘烤过程更加可靠。这样就能更好地控制晶圆的尺寸精度，同时让晶圆的侧壁轮廓更加稳定。
该系统在生产线上的稳定性很高，连续运行5,000小时后，其性能下降幅度仍低于5%，因此无需频繁更换灯具。而且，由于能量直接作用于晶圆上，而非整个腔体，所以其能耗也低于传统对流式烤箱。
让系统正常运行的细节
安装时，需要确保灯具与输送轨道的几何结构以及冲洗模块的尺寸相匹配，同时还要考虑喷嘴和旋转装置之间的空间需求。虽然该灯具具有防水功能，但溶剂和强效清洁剂仍会缩短其使用寿命。因此，需要合理安排更换周期，并确认所用化学物质与其兼容性。此外，还需根据光刻胶的类型来调整发射器的光谱和功率密度。如果施加过高的热量或过快的升温速度，就可能导致光刻胶表面受损，进而导致溶剂残留。