<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Laboratoř on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/cs/tags/laborato%C5%99/</link>
		<description>Recent content in Laboratoř on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 04:18:24 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/cs/tags/laborato%C5%99/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Sušič s ohřívačem pro laboratoř na čipu</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/cs/posts/lab-on-a-chip-drying-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:18:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/cs/posts/lab-on-a-chip-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Sušič s ohřívačem pro laboratoř na čipu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na úrovni waferů může krok sušení před litografií výrazně ovlivnit kvalitu výsledného produktu – a to nejen v nepatrné míře. Zbytky fotorezistu, vodní skvrny, problémy s okraji waferů – ve většině případů lze tyto problémy přičíst kolísáním teploty desky, špatné kontrole teploty během procesu nebo odpadu částic z samotného zařízení. Vytvořili jsme ohřívač určený k sušení na platformě Lab-on-a-Chip, aby tyto problémy byly eliminovány.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je důležité uvnitř zařízení&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Zařízení využívá krátkovlnné infračervené elementy s termálním designem založeným na kvarcu. Díky tomu dosahuje rovnoměrnosti teploty na úrovni waferů v rozmezí ±0,1 °C po celé aktivní ploše. Opakovatelnost teploty je v rozmezí ±0,2 °C mezi jednotlivými dávkami, což zajišťuje konzistentnost procesů spojených s sušením – právě to potřebujeme pro práci s fotorezistem.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
