Quarzglasgehäuse für Fab IR Lampe

Mon, 01 Jun 2026 02:38:09 +0800

Auf dem Lithografieboden verhandeln Soft Bake und Hard Bake nicht. Der Photoresist verhält sich genau so, wie das thermische Budget es vorgibt – ohne Ausnahmen. Ist die IR-Lampe schwach oder inkonsistent, gibt es keine Wiederholung. Stattdessen treten Linienbreitenvariationen, Rückstände und Ausschuss auf.
Sie führen 300-mm-Wafer durch eine enge Schleife – Beschichten, Backen, Belichten, Entwickeln. Das thermische Profil muss von Wafer zu Wafer, von Charge zu Charge reproduzierbar sein. Wenn das Lampengehäuse heiß läuft, driftet der Sollwert. Überträgt die Hülse ungleichmäßig, sieht der Rand eine andere Temperatur als die Mitte. Das Werkzeug kann ausgleichen, aber das Prozessfenster wird enger.
Eine Quarz-Hülse für Fab-IR-Lampen ist kein Verschleißteil, das man duldet. Sie ist die Schnittstelle zwischen Wärmequelle und Photoresist. Sie bestimmt Gleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit und Verfügbarkeit.

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