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		<title>Chip on China Infrared Heating Manufacturer</title>
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				<title>Trocknungsheizer für Labore auf Chip</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Trocknungsheizer für Labore auf Chip&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Wafer-Oberfläche kann die Trocknungsphase vor der Lithografie den Erfolg des gesamten Prozesses maßgeblich beeinflussen – und das auf sehr deutliche Weise. Reste von Fotoresistenzen, Wasserflecken oder Probleme an den Rändern der Wafer können meist auf Schwankungen der Plattentemperatur, eine ungenaue Temperaturregelung oder Partikel zurückgeführt werden, die vom Gerät selbst stammen. Wir haben den Lab-on-a-Chip-Trocknungshitzer entwickelt, um solche Probleme zu beseitigen.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Der Heizer nutzt kurzwelliges Infrarotlicht sowie ein mit Quarz optimiertes Wärmesystem. Dadurch wird eine Temperaturgleichmäßigkeit von ±0,1°C über die gesamte Aktivfläche der Wafer gewährleistet. Die Temperaturgenauigkeit liegt bei ±0,2°C von Charge zu Charge – das sorgt dafür, dass die Trocknungsprozesse konstant verlaufen. Genau das ist für die Verarbeitung von Fotoresistenzen entscheidend.&lt;/p&gt;</description>
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