<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Gebietet on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/de/tags/gebietet/</link>
		<description>Recent content in Gebietet on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 05:21:51 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/de/tags/gebietet/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Zonales Heizen für moderne Wafer Fabriken</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/de/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:21:51 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/de/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Zonales Heizen für moderne Wafer Fabriken&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Im Fertigungsraum reicht bereits eine Temperaturabweichung von 0,3 °C über die gesamte Waferfläche aus, um zu einer Veränderung der CD-Werte zu führen, zu Problemen bei der Deckung der Schichten sowie dazu, dass der Photoresist &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;seine&lt;/a&gt; thermischen Grenzen überschreitet. Es gibt keine Warnlichter – nur Verschwendung von Materialien und dringende Anfragen seitens der Lithografieabteilung.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir haben ein System mit zonalem Heizen entwickelt, bei dem jede Zone unabhängig gesteuert wird. Jede Zone nutzt schnelle NIR-Strahler mit quartzgestütztem Ausstrahlungsprofil. Dadurch können konstante Temperaturen zwischen 150–300 °C erreicht werden, mit einer Genauigkeit von ±0,1 °C auf der Waferoberfläche.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
