Nahinfrarot Emitterscheibe

Thu, 25 Jun 2026 04:57:55 +0800

In der Fertigungshalle sind thermische Schwankungen während des Trocknungsprozesses des Photoresists keine theoretischen Probleme – sie zeigen sich als Variationen der Linienbreite sowie als Rückgang der Erträge. Herkömmliche Heizplatten können diese Schwankungen nicht ausgleichen, insbesondere an den Rändern des Wafers. Der NIR-Emitor wurde genau dazu entwickelt, diese Lücke zu schließen: Er strahlt direktes Wärmelicht auf den Photoresist ab, wodurch das thermische Profil über die gesamte Fläche des Wafers gleichmäßig wird.

Was technisch wichtig ist: Wir haben den NIR-Emitor so eingestellt, dass er mit präziser Wellenlängensteuerung und hoher Gleichmäßigkeit auf den Photoresist wirkt. So wird eine Stabilität von ±0,1 °C erreicht, und die Steuerung reagiert in unter Sekundenbruchteilen. Die Quarzkapsel sowie die speziell konstruierte Filamentgeometrie sorgen dafür, dass Partikelbildung und Ausgasungen minimiert werden. Dadurch bleiben die Partikelzahlen in der Reinraumumgebung im Bereich von Klasse 1–100. In der Praxis bedeutet das, dass sowohl weiche als auch harte Trockenungsprofile immer wieder angewendet werden können – mit konstanter Verdunstung des Lösungsmittels und vorhersehbarem Verhalten des Photoresists. Die Leistungsintensität wird so eingestellt, dass sie zum Durchsatz der Lithografieanlage passt. Zudem passt das Gehäuse des Emitters perfekt in Standardleuchtengehäuse, und die Anschlüsse sind für einen 24/7-Betrieb ausgelegt.

(NIR) on China Infrared Heating Manufacturer

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