Präziser IR Sensor für Wafer

Fri, 10 Jul 2026 12:30:20 +0800

Kohlenstoffemissionen in der Fertigung reduzieren: Warum Präzises Infrarotheizen tatsächlich funktioniert
Heutzutage spricht jeder von „grünen Fabriken“. Doch wer eine Halbleiterfertigungsstätte betreibt, weiß, dass die Reduzierung der Kohlenstoffemissionen letztlich auf eines hinausläuft: darauf, wie man mit der Wärme umgeht.
Die herkömmlichen Widerstandsofen sind einfach zu verschwenderisch – sie erhitzen alles: den Raum, die Luft, die Wände – im Grunde alles außer dem Bereich, der eigentlich wichtig ist.
Deshalb haben wir uns für Präzises Infrarotheizen entschieden. Anstatt den ganzen Raum zu erwärmen, lenken wir die Energie gezielt auf die Oberfläche des Wafer.
Der Schlüssel liegt in der Energiedichte. Wir verwenden kurzwelliges Infrarot sowie Lampen mit hoher Leistungsdichte, um schnell die gewünschten Temperaturen zu erreichen. Dadurch wird weniger Energie pro Wafer benötigt.
Aber man kann die Leistung nicht einfach auf das Maximum erhöhen, nur um die Prozesse zu beschleunigen. Dadurch entstehen heiße Stellen – und niemand möchte einen verzerrten Siliziumwafer haben. Es geht darum, die richtige Einstellung der Lampen zu finden, damit die Wärme gleichmäßig verteilt wird.
Wo sich die wirklichen Einsparungen verbergen
Hier liegt oft ein Fehler: Die „versteckte“ Energie. Wenn man auf Infrarotheizen umsteigt, wird keine Energie mehr verschwendet, da die riesigen Öfen nicht mehr ungenutzt bleiben. Wir nutzen Quarzkapseln und Reflektoren, um jedes Photon zurück auf das Ziel zu lenken. Da keine Energie mehr überall im Raum verloren geht, müssen die Lüftungs- und Kühlsysteme nicht mehr so hart arbeiten, um den Raum kühl zu halten. Das führt zu einer deutlichen Reduzierung der Kohlenstoffemissionen.
Aber es ist nicht alles Magie
Ehrlich gesagt: Infrarotheizen ist keine Lösung, bei der man einfach alles auf Automatik stellen kann. Die Sensoren müssen perfekt eingestellt werden. Wenn der PID-Regler nicht richtig eingestellt ist, wird die gewünschte Temperatur überschritten – und die Wafer werden beschädigt. Zudem altern die Lampen mit der Zeit. Je mehr der Filament abgenutzt ist, desto mehr ändert sich die spektrale Ausstrahlung. Das darf man nicht ignorieren – man muss die Leistungsanpassung im Laufe der Zeit vornehmen, damit das thermische Profil konstant bleibt.
Es erfordert etwas mehr Sorgfalt, aber die Ersparnisse in Bezug auf Energie und Effizienz lohnen sich auf jeden Fall.

Präziser Infrarotheizer für Elektronik

Wed, 01 Jul 2026 13:06:03 +0800

In der Fabrik ist das Erhitzen des Fotolacks kein bloßes Aufwärmen – es handelt sich dabei um einen entscheidenden Schritt im Produktionsprozess. Eine Schwankung von 2 °C während des Erhitzungsprozesses kann zu erheblichen Abweichungen in den kritischen Abmessungen des Wafers führen. Deshalb haben wir einen präzisen Infrarotheizer entwickelt, der dafür sorgt, dass die Temperatur genau dort gehalten wird, wo sie wichtig ist.

Was technisch wichtig ist: Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotquellen mit schneller, direkter Strahlungskopplung. Die Reaktionszeit beträgt weniger als eine Sekunde, und die Gleichmäßigkeit der Temperatur auf der Oberfläche des Wafers liegt bei ±0,1 °C. Der Heizkörper besteht aus Quarz sowie hochreinem Keramikmaterial – dadurch entstehen keine Ausdünstungen und keine Partikel. Dadurch bleibt die Umgebung in einem Reinraumklasse 1–100. Die Temperaturrepetibilität zwischen den einzelnen Prozesszyklen beträgt ±0,5 °C – somit erfolgt jedes Erhitzungsverfahren unter denselben Bedingungen. Die Regelung erfolgt über kalibrierte Pyrometer sowie einen stabilen SSR-Controller – dadurch werden Hotspots am Rand des Wafers vermieden.

Präzision on China Infrared Heating Manufacturer

Präziser IR Sensor für Wafer

Präziser Infrarotheizer für Elektronik