Arrêtez de gaspiller de l’énergie dans le processus de traitement des wafer !
Soyons honnêtes : gaspiller de l’énergie dans une salle propre est un véritable cauchemar. Lorsque vous chauffez les wafer en silicium, vous voulez que toute l’énergie infrarouge atteigne bien le substrat. Vous ne voulez pas que cette énergie s’échappe et transforme le châssis du four en un énorme radiateur.
C’est pourquoi nous utilisons des réflecteurs recouverts d’or. Cela peut sembler compliqué, mais la logique est plutôt simple.
Pourquoi de l’or ?
La plupart des gens commencent par utiliser des réflecteurs en aluminium. Mais voici le problème : l’aluminium absorbe une grande partie du spectre infrarouge. L’or, lui, ne fait pas cela. Il est incroyablement efficace pour renvoyer les rayonnements infrarouges vers leur source.
Il ne s’agit pas ici d’augmenter la puissance des lampes. Il s’agit plutôt de cibler correctement la chaleur. En utilisant une couche d’or de haute précision, nous pouvons capturer les photons qui otherwise disparaîtraient dans le vide, et les rediriger vers le wafer. Le résultat ? Un profil thermique beaucoup plus précis. Vous n’aurez plus à vous soucier de ces zones chaudes qui perturbent le processus de séchage ou de durcissement des wafer.
L’équilibre à trouver
Nous construisons généralement ces chauffages pour des espaces restreints où il est difficile de faire circuler beaucoup d’air. Comme la couche d’or rend le transfert de chaleur beaucoup plus efficace, vous pouvez baisser légèrement la puissance des lampes tout en atteignant la température souhaitée. Votre système de climatisation vous remerciera de ne pas ajouter de chaleur supplémentaire dans la pièce.
Mais attention : ne négligez pas le refroidissement. Comme l’énergie est très concentrée, le boîtier de la lampe peut être endommagé si la ventilation est insuffisante. Si vous utilisez des ventilateurs de mauvaise qualité, vous risquez que les filaments brûlent prématurément.
Qu’est-ce que cela signifie pour vous ?
En pratique, cela permet d’accélérer les processus. Les temps de démarrage sont réduits, et la réponse thermique est plus rapide. Pour celui qui gère l’installation, cela signifie que davantage de wafer peuvent être traités, et moins de temps perdu à surveiller la machine pendant les transitions entre les lots. C’est un moyen simple d’améliorer l’efficacité, sans avoir à modifier l’ensemble du budget énergétique.