팹 램프용 석영 유리 보호장치

Tue, 21 Jul 2026 09:37:07 +0800

왜 팹용 램프에는 석영 보호막이 필요한가요?
팹에서 사용되는 적외선 가열 램프에 대해 이야기해보겠습니다. 우리 모두 알다시피, 이 램프들은 웨이퍼 처리 과정에서 매우 중요한 역할을 합니다. 하지만 문제는, 그 열 중 상당 부분이 그냥 사라져버린다는 것입니다. 만약 친환경 에너지 목표를 달성하거나 에너지 낭비를 줄이고 싶다면, 실제로 기판에 도달하는 열의 양과 방 안의 온도를 높이는 데 사용되는 열의 양을 반드시 파악해야 합니다.
바로 여기서 석영 유리 보호막이 필요합니다.
모든 것은 ‘열의 흐름’에 달려 있습니다.
대부분의 유리는 마치 벽과 같아서 적외선을 너무 많이 차단합니다. 하지만 고순도의 석영은 짧은 파장의 에너지가 통과할 수 있는 ‘열린 문’과 같습니다. 열이 흡수되지 않고 그대로 통과하기 때문에, 손실된 열을 보충하기 위해 더 많은 전력을 사용할 필요가 없습니다.
더 적은 전력을 사용한다면, 웨이퍼당 발생하는 kWh도 줄어듭니다. 그렇게 간단합니다.
램프가 과열되는 것을 막아줍니다.
물론 팹은 깨끗하지만, 이 램프들은 매우 뜨거워집니다. 보호막이 없으면, 램프 표면에 조금이라도 이물질이 닿으면 ‘열점’이 생깁니다.
겉으로는 사소해 보일 수 있지만, 이러한 열점들은 램프가 예상보다 훨씬 빨리 고장나게 만듭니다. 램프가 일찍 고장나면, 단순히 가동 중단 문제뿐만 아니라, 완벽한 제품도 폐기해야 하는 상황이 됩니다. 이는 시간과 자원의 낭비입니다.
단점과 그 해결 방법
물론 완벽한 것은 없습니다. 보호막을 추가하면 램프와 웨이퍼 사이에 얇은 공기층이 생기게 되어, 약간의 열 지연이 발생합니다. 따라서 PID 컨트롤러를 조절해야 합니다. 또한, 냉각 시스템도 주의해야 합니다. 일부 적외선은 보호막을 반사하여 다시 램프로 돌아올 수 있습니다. 냉각 시스템이 이를 감당하지 못하면, 온도가 너무 높아질 수 있습니다.
하지만 이 문제를 해결한다면, 모든 것이 더 원활해집니다. 열이 더 고르게 분산되고, 램프의 수명도 길어집니다. 또한, 생산 속도도 저하되지 않으면서 낭비도 줄어듭니다. 그야말로 합리적인 해결책입니다.

패브 IR 램프용 쿼츠 슬리브

Mon, 01 Jun 2026 02:38:09 +0800

리소그래피 라인에서 소프트 베이크와 하드 베이크는 타협하지 않는다. 포토레지스트는 열처리 조건에 따라 행동하며 예외는 없다. IR 램프가 약하거나 불안정하면 재작업이 불가능하다. 그 결과 라인폭 편차, 불순물 잔류, 불량이 발생한다.
300 mm 웨이퍼를 코팅, 베이크, 노광, 현상이라는 엄격한 공정 루프에 투입하고 있다. 열 프로파일은 웨이퍼마다, 로트마다 반복되어야 한다. 램프 하우징이 과열되면 설정점이 변동한다. 쿼츠 슬리브가 불균일하게 열을 전달하면 가장자리와 중앙의 온도가 달라진다. 장비가 보정할 수 있지만 공정 윈도우가 좁아진다.
FAB IR 램프용 쿼츠 슬리브는 소모품으로 그냥 넘길 수 있는 부품이 아니다. 열원과 포토레지스트 사이의 인터페이스 역할을 한다. 균일성, 반복성, 가동 시간을 결정한다.

쿼츠 on China Infrared Heating Manufacturer

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