<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/ms/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:57:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/ms/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bulb pemancar cahaya inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/ms/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:57:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/ms/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Bulb pemancar cahaya inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di kilang pembuatan cip, perubahan suhu semasa proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang teoretikal sahaja. Ia akan menyebabkan variasi ketebalan garisan dan penurunan kualiti produk yang dihasilkan. Kaedah pemanasan konvensional tidak mampu mengatasi masalah ketidakkonsistenan suhu, terutamanya di bahagian tepi wafer. Lampu pengeluar cahaya inframerah dekat direka untuk mengatasi masalah ini; ia &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;memberikan&lt;/a&gt; haba secara langsung ke permukaan photoresist, sehingga suhu di seluruh permukaan wafer menjadi seragam.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami telah menyesuaikan lampu pengeluar cahaya inframerah dekat agar dapat mengawal suhu photoresist dengan tepat. Kestabilan suhu yang dicapai ialah ±0.1°C, dan kawalan kadar pemanasan berlaku dalam masa beberapa saat sahaja. Lapisan kuarsa dan reka bentuk filamen yang digunakan membantu mengurangkan penghasilan zarah-zarah berbahaya, sekaligus memastikan bilangan zarah di bilik bersih kekal dalam lingkungan Class 1–100. Dengan cara ini, proses pemanasan dapat dilakukan dengan lebih efisien, dan hasilnya akan konsisten dari satu kitaran ke kitaran yang lain. &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Ketumpatan&lt;/a&gt; tenaga juga disesuaikan agar sesuai dengan keperluan proses litografi. Selain itu, reka bentuk lampu ini membolehkannya digunakan 24/7 tanpa masalah.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
