http://ir-heat-china.com/ms/tags/pemancar/ Recent content in Pemancar on China Infrared Heating Manufacturer Hugo ms Fri, 17 Jul 2026 07:30:24 +0800 http://ir-heat-china.com/ms/posts/ceramic-end-cap-for-ir-emitter/ Fri, 17 Jul 2026 07:30:24 +0800 http://ir-heat-china.com/ms/posts/ceramic-end-cap-for-ir-emitter/ <p><img src="http://ir-heat-china.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="Hujung kaca seramik untuk pemancar IR"></p> <h1 id="mengapa-penutup-seramik-sangat-penting-untuk-emitter-ir-anda">Mengapa Penutup Seramik Sangat Penting untuk Emitter IR Anda</h1> <p>Dalam kilang pengeluaran semikonduktor, kita sentiasa berusaha mencapai <a href="https://henruite.com">keseimbangan</a> yang sempurna dari segi suhu. Ia merupakan cabaran yang sukar. Kita memerlukan ketepatan yang tinggi, tetapi pada masa yang sama perlu mengelakkan penggunaan tenaga yang berlebihan.</p> <p><a href="https://o-yate.net">Kebanyakan</a> orang hanya memfokuskan perhatian pada mesin-mesin besar, tetapi rahsianya sebenarnya terletak pada komponen-komponen kecil seperti penutup seramik. Walaupun ia kelihatan seperti komponen yang tidak penting, namun ia sebenarnya menentukan sama ada tenaga tersebut dapat digunakan untuk memanaskan wafer atau sebaliknya.</p> http://ir-heat-china.com/ms/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/ Thu, 25 Jun 2026 04:57:55 +0800 http://ir-heat-china.com/ms/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/ <p><img src="http://ir-heat-china.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="Bulb pemancar cahaya inframerah dekat (NIR)"></p> <p>Di kilang pembuatan cip, perubahan suhu semasa proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang teoretikal sahaja. Ia akan menyebabkan variasi ketebalan garisan dan penurunan kualiti produk yang dihasilkan. Kaedah pemanasan konvensional tidak mampu mengatasi masalah ketidakkonsistenan suhu, terutamanya di bahagian tepi wafer. Lampu pengeluar cahaya inframerah dekat direka untuk mengatasi masalah ini; ia <a href="https://o-yate.net">memberikan</a> haba secara langsung ke permukaan photoresist, sehingga suhu di seluruh permukaan wafer menjadi seragam.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Kami telah menyesuaikan lampu pengeluar cahaya inframerah dekat agar dapat mengawal suhu photoresist dengan tepat. Kestabilan suhu yang dicapai ialah ±0.1°C, dan kawalan kadar pemanasan berlaku dalam masa beberapa saat sahaja. Lapisan kuarsa dan reka bentuk filamen yang digunakan membantu mengurangkan penghasilan zarah-zarah berbahaya, sekaligus memastikan bilangan zarah di bilik bersih kekal dalam lingkungan Class 1–100. Dengan cara ini, proses pemanasan dapat dilakukan dengan lebih efisien, dan hasilnya akan konsisten dari satu kitaran ke kitaran yang lain. <a href="https://o-yate.com">Ketumpatan</a> tenaga juga disesuaikan agar sesuai dengan keperluan proses litografi. Selain itu, reka bentuk lampu ini membolehkannya digunakan 24/7 tanpa masalah.</p>