<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Poskan on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/ms/tags/poskan/</link>
		<description>Recent content in Poskan on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:56 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/ms/tags/poskan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah untuk keping cip selepas proses pembersihan</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah untuk keping cip selepas proses pembersihan&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pembersihan cip tersebut, langkah pembersihan selepas proses pembersihan itulah di mana kadar keberkesanan pengeluaran boleh menurun dengan cepat. Cip yang keluar daripada proses pembersihan masih mempunyai permukaan yang sedikit kasar dan kelembapan yang masih terdapat pada permukaannya. Jika suhu semasa proses pembakaran tidak dikawal dengan baik, bahan pelarut akan tetap tinggal pada permukaan cip, dan daya lekat bahan fotorezistan juga akan berubah. Ini seterusnya akan menyebabkan ketidakstabilan dalam kawalan dimensi penting cip tersebut. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk digunakan selepas proses pembersihan, agar masalah ini dapat diatasi.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
