<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Reinigen on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/nl/tags/reinigen/</link>
		<description>Recent content in Reinigen on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:56 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/nl/tags/reinigen/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Infraroodverwarmer voor de wafer na reiniging</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/nl/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/nl/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Infraroodverwarmer voor de wafer na reiniging&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn is het proces na het reinigen het moment waarop de kwaliteit van de wafer binnen enkele minuten kan verslechteren. De wafer komt uit het reinigingsproces met nog steeds enige oneffenheden en vocht op het oppervlak. Als de temperatuur tijdens het vervolgende verhittingsschema ook maar iets te hoog of te laag is, blijft er nog steeds oplosmiddel achter, waardoor de hechting van de fotorezist verandert. Hierdoor wordt het moeilijk om de juiste afmetingen van de wafer vast te houden. We hebben &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;daarom&lt;/a&gt; een infraroodverwarmer ontwikkeld die deze variabiliteit wegneemt.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
