Wafel on China Infrared Heating Manufacturer

Temperatuursensor voor wafertool

Fri, 24 Jul 2026 11:55:34 +0800

Zorgen dat je wafertechnologieën niet falen

Wanneer je werkt met hoge-precisieapparatuur voor het verwerken van wafers, zijn de mogelijkheden zeer beperkt. Eén kleine elektrische lekstroom? Dan is het al voorbij: al je siliciumpartijen zijn dan nutteloos.

Daarom voeren we hier geen ‘proeftests’ uit. We testen niet alleen een paar exemplaren en hopen op het beste resultaat. Elke lamp en verwarmingselement die onze fabriek verlaat, wordt grondig getest op de weerstand tegen hoge spanningen en op de isolatiewaarde. Iedereen moet voldoen aan deze standaarden – zonder uitzonderingen.

Reflector voor wafer curinglamp

Tue, 21 Jul 2026 09:50:48 +0800

Stop met het verspillen van warmte bij het drogen van wafers

Tijdens het drogen van wafers moet de thermische situatie perfect zijn. Maar hier is het probleem: de meeste systemen laten warmte overal ontsnappen. Hierdoor wordt het frame van de machine verhit in plaats van de wafer zelf.
Dat is zonde. Niet alleen van energie, maar ook van geld.

Waar gaat de warmte naartoe?

Stel je eens voor dat je een lamp gebruikt zonder reflector. Meer dan de helft van de energie gaat dan gewoon naar achteren. Het is dus net alsof je een ruimteverwarmer hebt op de productielijn.
We lossen dit op door goudcoateerde of hoogzuiver aluminiumreflectoren te gebruiken. Zij weerkaatsen de energie terug naar waar ze thuishoren: op de wafer.
Het resultaat? Je krijgt dezelfde droogresultaten, maar je kunt de vermogenssterkte verminderen. Je energierekening daalt en je broeikasgasuitstoot neemt af. Het is een win-winsituatie.

Verwarmingsapparaat voor het drogen van MEMS sensorwafern

Sun, 19 Jul 2026 16:26:18 +0800

Een slimmere manier om MEMS-wafers te drogen (en energie te besparen)

Wanneer je MEMS-sensorwafers droogt, loop je eigenlijk op een slinger. Je moet elke druppel vocht eraf halen, maar als je te agressief bent, vernietig je die kleine, kwetsbare microstructuren.

De oude manier? Convectiekosten. Maar hier zit het probleem: ze verbruiken enorm veel energie alleen al om de lucht in de hele kamer op te warmen. Dat is verspilling.

We hebben een betere manier gevonden met kortegolflange infrarood (IR)-lampen. In plaats van de lucht op te warmen, richten deze lampen zich rechtstreeks op de wafer. Het is direct. Het is efficiënt. En het elimineert een groot deel van de verspilde stroom.

Energiezuinige waferverwarmer

Sat, 11 Jul 2026 09:06:52 +0800

Hoe u uw waferverwarmers veilig houdt (en uw apparatuur in werking)

Waferverwarmers zitten in een moeilijke situatie. Er wordt veel hitte gegenereerd in een zeer kleine ruimte, met bijna geen ruimte voor fouten. Eén kleine fout in de isolatie kan ertoe leiden dat de controller beschadigd raakt of dat de siliciumwafer kapot gaat. Het is een nachtmerriescenario.

Daarom gokken we niet. Elke verwarmingselement die ons bedrijf verlaat, ondergaat een grondige test op spanningsterkte en isolatieweerstand. Er zijn geen uitzonderingen.

Het probleem met diëlektrische breuk Als er hoge spanningen door een verwarmer gaan, moet de isolatie perfect functioneren. De isolatie moet ervoor zorgen dat de stroom precies daar blijft waar hij hoort te zijn, zodat deze niet in het chassis terechtkomt.

Precisiem IR sensor voor wafer

Fri, 10 Jul 2026 12:30:20 +0800

Het verminderen van de koolstofuitstoot in een halfgeleiderfabriek: waarom precisie-IR-verwarming werkt
Iedereen heeft het tegenwoordig over “groene fabrieken”. Maar als je een halfgeleiderfabriek runt, weet je dat het verminderen van je koolstofvoetafdruk vooral neerkomt op één ding: hoe je met warmte omgaat.
De ouderwetse resistieve ovens zijn gewoon verspilling. Ze verwarmen alles: de kamer, de lucht, de muren – kortom, alles behalve het deel dat je eigenlijk wilt verwarmen.
Daarom hebben we gekozen voor precisie-IR-verwarming. In plaats van de hele ruimte te verwarmen, richten we de energie rechtstreeks op het oppervlak van de chip.
Het geheim zit in de energiedichtheid.
We gebruiken kortegolf-IR-lampen met hoge energiedichtheid om zo snel mogelijk de gewenste temperatuur te bereiken. Hierdoor wordt er minder energie verbruikt per chip.
Maar je kunt de stroomsterkte niet zomaar verhogen om het proces te versnellen. Anders ontstaan er hete plekken. En niemand wil een vervormde siliciumchip hebben. Het gaat erom om de juiste balans te vinden tussen de lampen, zodat de warmte gelijkmatig wordt verdeeld.
Waar het echte besparing zit
Dit is vaak het onderdeel dat mensen over het hoofd zien: de “verborgen” energie.
Wanneer je overstapt op IR-verwarming, stop je met het verspillen van energie aan die enorme ovens die alleen maar stil staan. We gebruiken kwartsomhullingen en reflectoren om elke foton terug te laten kaatsen naar het gewenste doel.
Omdat we geen warmte meer verspillen, hoeven de ventilatie- en koelsystemen zich niet meer zo in te spannen om de ruimte koel te houden. Hier zie je dan echt een daling in de koolstofuitstoot.
Het is echter niet magisch
Eerlijk gezegd is IR-verwarming geen oplossing die je gewoon kunt instellen en vergeten. De sensoren moeten perfect worden afgesteld. Als de PID-regeling niet goed is ingesteld, kan het gebeuren dat de temperatuur te hoog wordt en de chips beschadigen. Bovendien verslechteren de lampen na verloop van tijd. Naarmate het filament versleten is, verandert ook de spectrale uitstraling. Je kunt dit niet negeren; je moet de stroomsterkte regelmatig aanpassen om het thermische profiel stabiel te houden.
Het vereist wat meer aandacht voor detail, maar de besparing in energie en efficiëntie is het waard.

Infraroodverwarmer voor de wafer na reiniging

Thu, 02 Jul 2026 09:03:56 +0800

Op de productielijn is het proces na het reinigen het moment waarop de kwaliteit van de wafer binnen enkele minuten kan verslechteren. De wafer komt uit het reinigingsproces met nog steeds enige oneffenheden en vocht op het oppervlak. Als de temperatuur tijdens het vervolgende verhittingsschema ook maar iets te hoog of te laag is, blijft er nog steeds oplosmiddel achter, waardoor de hechting van de fotorezist verandert. Hierdoor wordt het moeilijk om de juiste afmetingen van de wafer vast te houden. We hebben daarom een infraroodverwarmer ontwikkeld die deze variabiliteit wegneemt.

Gezonke verwarming voor geavanceerde waferfabrieken

Tue, 30 Jun 2026 05:21:51 +0800

Op de productielijn is een temperatuurverschil van 0,3°C over het wafer al voldoende om de CD-tegenvallen te veroorzaken, de afwerking van het wafer te verstoren en de fotoreceptor buiten zijn thermische grenzen te duwen. Er zijn geen waarschuwingslichten. Het resultaat is slechts afval – en een dringend verzoek om hulp van het team dat zich bezighoudt met lithografie.

Wat echt belangrijk is
We hebben een systeem van gecombineerde verwarmingssystemen ontwikkeld, waarbij elke thermische zone apart kan worden geregeld. Elke zone wordt bestuurd door snelreagerende NIR-emitters met een kwartsgestabiliseerd profiel. Hierdoor blijft de temperatuur binnen een bereik van 150–300°C, met een precisie van ±0,1°C per wafer.

Ellipsometrie wafer probeschroevendraaier

Wed, 17 Jun 2026 16:05:31 +0800

Op de productielijn kunnen temperatuurschommelingen tijdens het testen van de wafers en het bakken van de photoresist niet alleen leiden tot afwijkingen van de vereiste specificaties, maar ze kunnen ook zorgen voor verspilling van producten. We hebben een heater ontwikkeld die wordt gebruikt bij de ellipsometrische metingen, zodat de temperatuur binnen de gewenste grenzen blijft, zelfs wanneer de productielijn op volle capaciteit draait.

Wat technisch gezien belangrijk is: De heater maakt gebruik van kortegolfinfraroodlicht en een snel reagerend kwarts-halogeenemitter. Hierdoor is de temperatuurregeling nauwkeurig en stabiel. Over de hele oppervlakte van de wafer blijft de temperatuur binnen ±0,1°C. Dit zorgt er vervolgens voor dat de cruciale stappen zoals het zacht bakken, het hard bakken en het drogen van de wafer binnen de gewenste temperatuurbereiken blijven. Het lichaam van de heater is geschikt voor gebruik in een schone ruimte van klasse 1–100 en is zo ontworpen dat er geen deeltjes vrijkomen. De hete zone is geïsoleerd en de oppervlakken zijn gepassiveerd om besmetting te voorkomen. De temperatuurregeling is nauwkeurig, zodat de procesparameters elke dag en tussen verschillende loten consistent blijven.