На этапе сушки на площадке для обработки кристаллов правильное выполнение этой процедуры может значительно повлиять на качество готового продукта. Остатки фотополимеров, следы воды, проблемы с краями кристалла – всё это часто связано с колебаниями температуры, неправильным контролем температуры или осадком частиц с самого оборудования. Мы разработали специальный нагреватель для сушки кристаллов, который помогает избежать этих проблем.
Что действительно важно Устройство использует инфракрасные элементы с короткими волнами, а также тепловую конструкцию с использованием кварца. Благодаря этому достигается однородность температуры на всей площади кристалла – до ±0,1°C. Повторяемость температуры составляет ±0,2°C между различными партиями кристаллов. Это позволяет сохранять стабильность параметров процесса сушки, что крайне важно при обработке фотополимеров.
Устройство совместимо с помещениями класса чистоты 1–100 благодаря использованию материалов с низким уровнем выделения газов, герметичным соединениям и системе, предотвращающей появление частиц во время работы. На наших пилотных линиях нагреватель работает круглосуточно без перерывов, а потребление энергии соответствует требованиям кристаллов.
Почему это подходит для производства В процессе производства кристаллов с использованием технологии Lab-on-a-Chip необходима быстрая сушка, строгий контроль температуры и отсутствие загрязнений. Это устройство заменяет старые методы сушки и инфракрасные системы на более совершенное решение, соответствующее международным стандартам оборудования для производства полупроводников.
Результаты использования этого устройства очевидны: улучшается контроль критических размеров кристаллов, снижается количество необходимых переработок, а время процесса становится предсказуемым. Когда исчезают колебания температуры, снижается вероятность возникновения дефектов из-за недостаточной или чрезмерной сушки.
Практические аспекты Для работы устройства необходим источник питания 24 В DC с чистым заземлением. Если рядом находятся приборы, чувствительные к ЭМИ, необходимо заранее подумать о мерах изоляции. Устройство быстро достигает заданной температуры, но теплоемкость кристаллов может различаться. Поэтому необходимо проверить скорость изменения температуры для конкретного типа кристаллов.
Мы предоставляем стандартные интерфейсы для интеграции устройства, но для нестандартных установок требуются специальные решения. Если правильно настроить устройство с самого начала, можно добиться стабильной работы и минимизировать проблемы с качеством продукции.