<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Вафля on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/ru/tags/%D0%B2%D0%B0%D1%84%D0%BB%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Вафля on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:54 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/ru/tags/%D0%B2%D0%B0%D1%84%D0%BB%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Инфракрасный нагреватель для пластин после чистки</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/ru/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:54 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/ru/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Инфракрасный нагреватель для пластин после чистки&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На этапе после очистки на производственной линии процент годных изделий может снизиться за несколько минут. После процедуры очистки или промывки на поверхности кристалла остается небольшая шероховатость и влага. Если температура, необходимая для дальнейшей обработки, будет отклоняться хотя бы на один градус, растворители будут продолжать оставаться на поверхности, а адгезия фотополимера ухудшится. Это приведет к нарушению контроля за критическими размерами изделий. Мы разработали инфракрасный нагреватель для использования после очистки, чтобы устранить такие проблемы.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет значение с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Устройство использует коротковолновые инфракрасные излучатели в модуле на основе кварца. Благодаря этому достигается быстрое нагревание поверхности без необходимости полного нагрева всей камеры. Равномерность температуры на поверхности кристалла составляет ±0,1°C в диапазоне от 80°C до 250°C – это позволяет использовать различные режимы нагрева. Время реакции составляет менее 3 секунд, что позволяет сохранять стабильность температуры.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Зонированное отопление для современных заводов по производству пластин</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/ru/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:21:51 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/ru/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Зонированное отопление для современных заводов по производству пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной площадке достаточно небольшого изменения температуры в 0,3°C на поверхности кристалла, чтобы это повлияло на параметры фотополимера, привело к его деформации и вывело его температуру за пределы допустимых значений. Нет никаких сигналов тревоги. В итоге получается бракованный продукт, а также необходимость срочного вмешательства со стороны специалистов по литографии.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что действительно важно&lt;/strong&gt;&#xA;Мы использовали систему зонированного нагрева с автономным управлением отдельными тепловыми зонами. Каждая зона оснащена излучателями в инфракрасном диапазоне с высокой скоростью реакции; профиль температуры контролируется с помощью кварцевых элементов. Таким образом, температура в каждой зоне остается стабильной в диапазоне от 150 до 300°C с точностью ±0,1°C.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Тонкослойное нагревание инфракрасным излучением</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/ru/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Tue, 09 Jun 2026 03:46:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/ru/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Тонкослойное нагревание инфракрасным излучением&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственном участке уменьшение толщины пластин — это термочувствительная операция. Неравномерный тепловой профиль при инфракрасном нагреве не только деформирует пластину; он вызывает потери выхода годных из-за коробления, напряжений в фоторезисте и микротрещин, которые проявляются на более поздних этапах литографии и упаковки. Требуется источник тепла, который обрабатывает всю поверхность как единую повторяемую тепловую зону.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Технически важные моменты&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Наши модули коротковолнового инфракрасного нагрева обеспечивают однородность температуры на уровне пластины в пределах ±0,1°C по всей подложке, с временем отклика менее 2 секунд и стабильными уставками от комнатной температуры до 450°C. Массив излучателей использует кварцево-галогеновые элементы в отражательном исполнении, минимизирующем горячие точки, а тепловая система сконструирована для работы в чистой зоне класса 1–100 с нулевой генерацией частиц в стабильном режиме. Повторяемость температуры сохраняется лучше ±0,5°C более 5 000 часов, что обеспечивает стабильность профилей мягкой и жесткой термообработки фоторезиста.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
