<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Пост on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D1%81%D1%82/</link>
		<description>Recent content in Пост on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:54 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D1%81%D1%82/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Инфракрасный нагреватель для пластин после чистки</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/ru/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:54 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/ru/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Инфракрасный нагреватель для пластин после чистки&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На этапе после очистки на производственной линии процент годных изделий может снизиться за несколько минут. После процедуры очистки или промывки на поверхности кристалла остается небольшая шероховатость и влага. Если температура, необходимая для дальнейшей обработки, будет отклоняться хотя бы на один градус, растворители будут продолжать оставаться на поверхности, а адгезия фотополимера ухудшится. Это приведет к нарушению контроля за критическими размерами изделий. Мы разработали инфракрасный нагреватель для использования после очистки, чтобы устранить такие проблемы.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет значение с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Устройство использует коротковолновые инфракрасные излучатели в модуле на основе кварца. Благодаря этому достигается быстрое нагревание поверхности без необходимости полного нагрева всей камеры. Равномерность температуры на поверхности кристалла составляет ±0,1°C в диапазоне от 80°C до 250°C – это позволяет использовать различные режимы нагрева. Время реакции составляет менее 3 секунд, что позволяет сохранять стабильность температуры.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
