http://ir-heat-china.com/tr/tags/wafers/ Recent content in Wafers on China Infrared Heating Manufacturer Hugo tr Thu, 02 Jul 2026 09:03:56 +0800 http://ir-heat-china.com/tr/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ Thu, 02 Jul 2026 09:03:56 +0800 http://ir-heat-china.com/tr/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-china.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Temizleme sonrası yonga kızılötesi ısıtıcısı"></p> <p>Üretim alanında, temizleme işleminin ardından gelen aşamada verimlilik birkaç <a href="https://henruite.com">dakika</a> içinde kaybolabilir. Wafer, temizleme veya durulama işlemlerinden çıktığında yüzeyinde hâlâ mikro düzeyde pürüzlülükler ve nem bulunur. Eğer devam eden ısıtma işlemi bir derece bile yanlış yapılırsa, çözücüler yüzeyde kalır, fotoresist tabakasının yüzeye yapışması bozulur ve kritik boyutların kontrolü zorlaşır. Bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için temizleme sonrası kullanılan infraruj ısıtıcılar geliştirdik.</p> <p><strong><a href="https://o-yate.com">Teknik</a> açıdan önemli olanlar:</strong><br> Bu cihaz, kuvars tabanlı bir modül içinde kısa dalga boylu infraruj ışınları kullanır. Böylece hızlı ve etkili bir ısıtma sağlanır, ancak oda içindeki sıcaklık dengesi bozulmaz. Waferin her yerinde sıcaklık, 80°C’den 250°C’ye kadar ±0,1°C civarında sabit kalır. Tepki süresi 3 saniyenin altındadır; bu sayede ısıl denge sağlanır.</p> http://ir-heat-china.com/tr/posts/ellipsometry-wafer-probe-heater/ Wed, 17 Jun 2026 16:05:31 +0800 http://ir-heat-china.com/tr/posts/ellipsometry-wafer-probe-heater/ <p><img src="http://ir-heat-china.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Elipsometri wafer sıcaklık sensörü"></p> <p>Üretim alanında, <a href="https://henruite.com">waferlerin</a> test edilmesi ve reaktif maddelerin pişirilmesi sırasındaki sıcaklık değişiklikleri, sadece belirlenen özellikleri bozmakla kalmaz; aynı zamanda üretim verimliliğini de düşürür. Bu yüzden, hat tam kapasiteyle çalışırken bile sıcaklığı belirlenen aralıkta tutmak için elipsometri tabanlı wafer ısıtıcıları geliştirdik.</p> <p><strong>Teknik açıdan önemli olanlar:</strong><br> Bu cihaz, hızlı tepki veren kuvars-halojen emitörleri kullanarak kısa dalga boylu kızılötesi ışık yayınlar. Böylece sıcaklık kontrolü daha <a href="https://o-yate.com">hassas</a> olur ve süreç stabil kalır. Wafer üzerindeki sıcaklık uniformitesi ±0,1°C civarında tutulur; bu da yumuşak pişirme, sert pişirme ve pişirme sonrası işlemlerin fotoresistin termal limitleri <a href="https://o-yate.net">dahilinde</a> gerçekleşmesini sağlar. Isıtıcı gövdesi, Class 1–100 standartlarına uygun şekilde tasarlanmıştır ve parça üretimi sırasında herhangi bir kirliliğe yol açmaz. Sıcak bölge izole edilmiş olup, yüzeyler de kirlenmeyi en aza indirmek için özel şekilde işlenmiştir. Entegre sıcaklık geri bildirimi sayesinde süreç parametreleri gün içinde ve farklı partiler arasında tutarlı kalır.</p>