<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Віфлеєм on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/</link>
		<description>Recent content in Віфлеєм on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:56 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Інфрачервоний обігрівач для пластин після чищення</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/uk/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/uk/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Інфрачервоний обігрівач для пластин після чищення&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На заводі на етапі післячищувальних процедур якість продукції може значно погіршитися протягом кількох хвилин. Після чищення пластинка все ще має незначну поверхневу шорсткість та вологу на своїй поверхні. Якщо температура під час подальшої обробки буде навіть на один градус не такою, як потрібно, розчинники залишаться на поверхні, а зчеплення фоторезисту погіршиться. Ми створили інфрачервоний нагрівач для післячищувальних процедур, щоб усунути ці проблеми.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;У пристрої використовуються короткохвильові інфрачервоні випромінювачі в модулі з кварцом. Це дозволяє швидко нагріти поверхню пластинки, не даючи при цьому надмірного нагріву всього приміщення. Рівномірність температури по всій площі пластинки становить ±0,1°C в діапазоні від 80°C до 250°C – це дозволяє використовувати різні режими нагріву. Час реакції становить менше 3 секунд, тож температурний режим залишається стабільним.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Нагрівач зонда для елліпсометрії пластин</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/uk/posts/ellipsometry-wafer-probe-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:05:31 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/uk/posts/ellipsometry-wafer-probe-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Нагрівач зонда для елліпсометрії пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії коливання температури під час перевірки пластин та процедури сушіння фотолаку не лише порушують встановлені параметри – вони також призводять до марнування продукції. Ми створили нагрівач для пристрою еліпсометрії, який дозволяє підтримувати температуру в заданих межах, навіть коли лінія працює на повну потужність.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Цей пристрій використовує короткогалузеве інфрачервоне світло та кварцово-галогенний випромінювач із швидкою реакцією. Це забезпечує стабільність процесу та можливість повторюваних вимірювань. На всій площі зони вимірювання однорідність температури становить ±0,1°C, що дозволяє зберігати критичні параметри процесу – температуру під час м’якого та жорсткого сушіння, а також після сушіння – в межах допустимих значень. Корпус нагрівача придатний для використання в чистих приміщеннях класу 1–100; крім того, він розроблений таким чином, щоб не створювати жодних частинок. Гаряча зона ізольована, а поверхні захищені від забруднень. Інтегрований механізм контролю температури дозволяє підтримувати стабільність процесу щодня та між партиями продукції.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
