<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>پوسٹ on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/ur/tags/%D9%BE%D9%88%D8%B3%D9%B9/</link>
		<description>Recent content in پوسٹ on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ur</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/ur/tags/%D9%BE%D9%88%D8%B3%D9%B9/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>صفائی کے بعد ویفر کے لئے انفراریڈ ہیٹر</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/ur/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/ur/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;صفائی کے بعد ویفر کے لئے انفراریڈ ہیٹر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;فیبرکی فلور پر، صفائی کے بعد کے مرحلے میں ہی مصنوعات کی کوالٹی چند منٹوں میںخراب ہو سکتی ہے۔ ویفر کو صاف کرنے کے بعد بھی اس کی سطح پر مائکرو-رفنس اور نمی باقی رہ جاتی ہے۔ اگر اس کے بعد ہونے والے عمل میں تھوڑی سی بھی غلطی ہو جائے، تو حل اب بھی وہاں موجود رہتا ہے، فوٹوریزسٹ کی چپکنے کی صلاحیت متاثر ہو جاتی ہے، اور اہم ابعاد کو کنٹرول کرنا مشکل ہو جاتا ہے۔ ہم نے صفائی کے بعد استعمال ہونے والے ویفر کے لئے انفراریڈ ہیٹر تیار کیا ہے، تاکہ اس قسم کی غلطیوں سے بچا جا سکے۔&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
