<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Chip on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/vi/tags/chip/</link>
		<description>Recent content in Chip on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 04:18:24 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/vi/tags/chip/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Máy sấy dùng trong phòng thí nghiệm trên chip</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/vi/posts/lab-on-a-chip-drying-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:18:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/vi/posts/lab-on-a-chip-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Máy sấy dùng trong phòng thí nghiệm trên chip&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên bề mặt wafer, bước sấy khô trước khi tiến hành quy trình &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;lithography&lt;/a&gt; có ảnh hưởng lớn đến chất lượng sản phẩm, và ảnh hưởng này không hề nhỏ chút nào. Các tạp chất còn sót lại từ chất phủ phơi sáng, các vết nước, hay các vấn đề liên quan đến mép wafer – thường thì nguyên nhân của chúng là do sự biến đổi nhiệt độ, việc kiểm soát nhiệt độ kém hiệu quả, hoặc do các hạt bụi phát ra từ chính thiết bị. Chúng tôi đã phát triển thiết bị sấy khô Lab-on-a-Chip để loại bỏ những yếu tố gây rối này.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
