Bóng đèn phát ánh sáng hồng ngoại gần (NIR)

Thu, 25 Jun 2026 04:57:55 +0800

Trong quá trình xử lý bề mặt wafer, sự biến đổi nhiệt độ trong quá trình nung phim photoresist không phải là hiện tượng lý thuyết. Những biến đổi này thể hiện qua sự thay đổi độ rộng của các đường kẻ trên bề mặt wafer và sự giảm chất lượng sản phẩm. Các bảng nung thông thường khó có thể kiểm soát được sự biến đổi nhiệt độ này, đặc biệt là ở vùng mép wafer. Đèn phát sóng hồng ngoại gần được thiết kế để khắc phục nhược điểm này; nó truyền nhiệt trực tiếp vào phim photoresist, giúp làm đồng đều nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer.

(NIR) on China Infrared Heating Manufacturer

Bóng đèn phát ánh sáng hồng ngoại gần (NIR)