<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Vệ Sinh on China Infrared Heating Manufacturer</title>
		<link>http://ir-heat-china.com/vi/tags/v%E1%BB%87-sinh/</link>
		<description>Recent content in Vệ Sinh on China Infrared Heating Manufacturer</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-china.com/vi/tags/v%E1%BB%87-sinh/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lò sưởi hồng ngoại dùng để làm nóng wafer sau khi vệ sinh</title>
				<link>http://ir-heat-china.com/vi/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:03:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-china.com/vi/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-china.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lò sưởi hồng ngoại dùng để làm nóng wafer sau khi vệ sinh&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình sản xuất, bước làm sạch sau khi xử lý chính là lúc tỷ lệ thành công của quy trình có thể giảm mạnh trong vài phút. Wafer sau khi được rửa sạch vẫn còn tồn tại các vết nhám nhỏ trên bề mặt, cùng với hơi ẩm. Nếu nhiệt độ sấy không được kiểm soát chính xác, dung môi vẫn còn tồn tại trên bề mặt wafer, độ bám của chất phủ cũng bị ảnh hưởng, và việc kiểm soát kích thước các chi tiết trên wafer cũng trở nên khó khăn. Chúng tôi đã chế tạo máy sưởi bằng tia hồng ngoại để loại bỏ những yếu tố gây biến đổi này.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
