洗浄工程においては、水跡やレジストの状態が不安定になることは理論上の問題ではなく、実際に製品の品質を損なう要因となります。そのため、ウェハーの乾燥やそれに続く熱処理工程での不確実性を排除するために、防水仕様の赤外線ランプを開発しました。
内部で何が重要か 私たちは、密閉されたケース内で短波長の赤外線を発生させています。これは、接触せずに直接加熱する方式で、迅速に効果を発揮します。その結果、プロセス中のウェハー全体での温度差は±0.1℃以内に抑えられ、フォトレジストのソフトベイクやハードベイクの条件も再現性よく維持されます。温度の上昇も急速であり、制御されているため、溶剤が効果的に除去されます。また、このランプはクラス1～100の清浄室でも問題なく使用でき、粒子の発生もないため、ウェハーへの汚染も防げます。
なぜ生産現場で重宝されるのか 洗浄から乾燥への移行時に、赤外線がウェハー表面を直接加熱し、表面張力を破って蒸発を促進します。これにより、水滴が形成される機会がなくなります。その結果、水跡が減少し、欠陥の密度が低下し、第一回の歩留まりが向上します。 リソグラフィーにおいても、同じように制御された熱処理により、ソフトベイクの温度が安定し、ハードベイクの条件も再現性よく保たれます。これにより、キーディメンションの管理が容易になり、サイドウォールの形状もより安定します。 このシステムは安定して動作し、5,000時間以上使用しても出力の低下は5％未満です。そのため、予期しない問題やランプの交換の必要性も少なくなります。また、エネルギーがチャンバーではなく直接ウェハーに届くため、対流式オーブンを使用する場合よりも消費エネルギーが少なくて済みます。
機能を実現するための詳細 設置にあたっては、ランプをトラックの形状や洗浄モジュールのサイズに合わせる必要があります。また、ノズルやスピンボウルの位置も考慮する必要があります。 防水シールや保護窓は頑丈ですが、溶剤や強力な洗浄剤によって使用寿命が短くなる可能性があります。そのため、交換時期を適切に計画し、使用する化学薬品との互換性を確認する必要があります。 また、エミッターのスペクトルや出力密度も、使用するフォトレジストの特性に合わせる必要があります。過度な加熱を行うと、レジストが損傷したり、溶剤が残ったりする可能性があります。