Di bilik pengeluaran wafer, proses pemanasan menggunakan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah persiapan semata-mata. Ia merupakan langkah penting dalam proses pengeluaran wafer. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan boleh menyebabkan variasi dimensi yang signifikan pada wafer tersebut. Kami menggunakan pemanas inframerah berketepatan tinggi untuk memastikan suhu tetap stabil di kawasan yang penting.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan sumber cahaya gelombang pendek untuk proses pemanasan, dengan kecepatan radiasi yang tinggi. Masa tindak balasnya adalah kurang dari satu saat, dan ketepatan suhu pada setiap wafer adalah antara ±0.1°C. Badan pemanas dibuat daripada kuarsa dan seramik berkualiti tinggi, sehingga tidak ada pelepasan gas atau zarah-zarah berbahaya. Dengan ini, kebersihan persekitaran dapat dipertahankan pada tahap Class 1–100. Ketepatan suhu antara setiap kitaran pemanasan adalah ±0.5°C, jadi setiap proses pemanasan akan menghasilkan hasil yang konsisten. Sistem kawalan tertutup menggunakan alat pengukur suhu yang tepat serta komponen SSR yang stabil, agar titik-titik panas di bahagian tepi wafer dapat dikurangkan.
Mengapa ia berkesan dalam proses pengeluaran sebenar
Dalam proses litografi, pemanas ini diletakkan terus di atas pelat pemanasan. Ia dapat menyesuaikan diri dengan profil suhu substrat tanpa menyebabkan perubahan suhu yang berlebihan, sehingga kawalan dimensi wafer tetap konsisten. Ini membolehkan pengurangan jumlah produk yang perlu diperbaiki, serta meningkatkan kadar pengeluaran yang konsisten.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana tenaga tersebut digunakan untuk memanaskan wafer itu sendiri, bukan komponen-komponen di sekelilingnya. Masa operasi yang lama merupakan faktor utama yang menentukan kebolehpercayaan peralatan ini. Peralatan ini dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan jarak waktu servisnya boleh mencapai lebih dari 5,000 jam.
Apa yang perlu dipastikan
Pemanas ini memerlukan bekalan gas yang bersih dan kering, serta voltan yang stabil. Turunnya voltan boleh menyebabkan perubahan suhu yang mendadak, yang seterusnya akan menyebabkan ralat pada hasil pengeluaran. Toleransi pemasangan juga perlu dipantau dengan teliti – penyesuaian posisi pemanas terhadap wafer harus dilakukan dalam jarak 0.5 mm agar ketepatan suhu dapat dipertahankan. Pastikan wattage dan ukuran bukaan pemanas sesuai dengan saiz wafer dan prosedur pemanasan yang digunakan; kesalahan dalam hal ini akan merosakkan kebolehulangan hasil pengeluaran.