На этапе после очистки на производственной линии процент годных изделий может снизиться за несколько минут. После процедуры очистки или промывки на поверхности кристалла остается небольшая шероховатость и влага. Если температура, необходимая для дальнейшей обработки, будет отклоняться хотя бы на один градус, растворители будут продолжать оставаться на поверхности, а адгезия фотополимера ухудшится. Это приведет к нарушению контроля за критическими размерами изделий. Мы разработали инфракрасный нагреватель для использования после очистки, чтобы устранить такие проблемы.
Что имеет значение с технической точки зрения
Устройство использует коротковолновые инфракрасные излучатели в модуле на основе кварца. Благодаря этому достигается быстрое нагревание поверхности без необходимости полного нагрева всей камеры. Равномерность температуры на поверхности кристалла составляет ±0,1°C в диапазоне от 80°C до 250°C – это позволяет использовать различные режимы нагрева. Время реакции составляет менее 3 секунд, что позволяет сохранять стабильность температуры.
Устройство соответствует требованиям чистых помещений: используются материалы класса 1–100, поверхности полируются электрополированием, а система вентиляции обеспечивает отсутствие частиц во время работы устройства. Контроль осуществляется с использованием калиброванного пирометра и функции хранения параметров процесса, что обеспечивает повторяемость результатов при производстве разных партий изделий.
Почему устройство подходит для промышленного использования
После очистки кристалл помещается в устройство, которое обеспечивает точное соблюдение условий нагрева, необходимых для дальнейшей обработки. Быстрый нагрев позволяет сократить время обработки без превышения заданных значений. Потребление энергии калибруется в зависимости от нагрузки, поэтому оно меньше, чем при использовании обычных нагревателей.
Надежность устройства обеспечивает его возможность работать круглосуточно. Данные с производства показывают, что периоды простоя из-за неисправностей составляют менее 0,1% за тысячи циклов нагрева. Это означает меньше необходимости в перепроизводстве, стабильное выполнение требуемых параметров и высокую производительность.
Что необходимо учитывать при использовании устройства
При установке необходимо учитывать размер вентиляционных каналов и класс напряжения в помещении, где будет располагаться устройство. Устройство компактное, но все равно необходимо предусмотреть достаточное пространство вокруг излучателя для правильного протока воздуха и стабильной температуры.
Передача параметров процесса происходит легко для стандартных случаев. При индивидуальных настройках может потребоваться небольшой период настройки для обеспечения соответствия температурного профиля требованиям кристалла и процедуры очистки.