ファブの現場では、フォトレジストの焼成処理は単なるウォームアップではありません。それは重要な工程の一部です。ソフトベイク時に2℃もの温度変動があると、ウェハ全体にわたって重要な寸法のばらつきが生じます。私たちは、重要な部分の温度を安定させるために、高精度な赤外線ヒーターを開発しました。
技術的に重要な点 私たちは、高速で直接放射熱を供給する短波長のNIR光源を使用しています。応答速度は数秒以内で、ウェハ全体の温度均一性は±0.1℃以内に保たれます。ヒーター本体は石英や高純度セラミックで作られており、ガスの放出や粒子の発生が一切ないため、クリーンルームのクラス1～100の環境が維持されます。サイクルごとの温度再現性は±0.5℃であり、どのソフトベイクやハードベイクでも同じ温度条件が保たれます。閉ループ制御により、パターンの端での過熱が防がれます。
実際の生産現場で機能する理由 リソグラフィーの生産現場では、ヒーターは直接ベイクプレート内に設置されます。これにより、基板の温度プロファイルに合わせて温度が調整され、重要な寸法の管理が可能になります。その結果、再加工が減少し、より予測可能な歩留まりが得られます。 また、エネルギーはウェハに直接供給されるため、周囲の装置にエネルギーが消費されることはありません。そして、信頼性を左右するのは稼働時間です。これらの装置は24時間365日稼働し、計画外の停止はほとんどありません。メンテナンス間隔も5,000時間以上に及びます。
適切に設定するために必要なこと ヒーターには、清潔で乾燥したガス供給と安定した電圧が必要です。電圧の低下は一時的な温度変動を引き起こし、それがオーバーレイエラーとして現れます。設置精度も非常に厳しく、ウェハの位置合わせは0.5mm以内でなければなりません。ウェハのサイズや焼成条件に合った適切なワット数やアパーチャーを指定することが重要です。不適切な設定は、再現性の悪化を招きます。