בשלב הייבוש של הוופר, לפני תהליך הליתוגרפיה, קיימת השפעה משמעותית על איכות התוצאה – וזה לא קורה באופן עקיף. שאריות של חומרי פוטורזיסט, סימני מים, בעיות בקצוות הוופר – ברוב המקרים ניתן לייחס אותם לשינויים בטמפרטורה, לשליטה לקויה בטמפרטורה, או לחלקיקים שנוצרים מהמכשיר עצמו. יצרנו את החימום של Lab-on-a-Chip כדי להיפטר מהגורמים האלו.
מה חשוב באמת? המכשיר משתמש ברכיבי אינפרא-אדום בעלי גלי אור קצרים, יחד עם עיצוב תרמי משופר, כך שניתן להשיג אחידות בטמפרטורה של ±0.1°C בכל שטח הוופר. השגרתיות של הטמפרטורה היא ±0.2°C בין סדרות שונות, מה שמאפשר יצירה אחידה של המוצרים – בדיוק מה שנדרש בתהליכי עיבוד פוטורזיסט קריטיים.
המכשיר תואם את סטנדרטי החדרים הנקיים מסוג Class 1–100, בזכות שימוש בחומרים בעלי פליטה נמוכה, חיבורים אטומים, ומערכת שמונעת פליטת חלקיקים במהלך הפעולה. בקווי הייצור שלנו, החימום פועל 24/7 ללא הפסקות, וצריכת האנרגיה מותאמת לצרכי הוופר, ללא עודף.
למה זה מתאים למציאות הייצורית? בתהליכי ייצור Lab-on-a-Chip, יש צורך בייבוש מהיר, שליטה איכותית בטמפרטורה, ותהליך שאינו גורם לזיהום. המכשיר הזה מחליף את המשטחים החמים המסורתיים ואת מערכות האינפרא-אדום הישנות, בפתרון מוכח שעומד בסטנדרטים הבינלאומיים של ציוד סמיקונדוקטורים.
התוצאה היא שליטה טובה יותר בממדים הקריטיים, פחות צורך בעיבוד מחדש, וזמני עיבוד צפויים. כשהטמפרטורה יציבה, התהליך יעיל יותר, והפגמים הנגרמים מחום לא מספיק או יתר חום פוחתים.
פרטים פרקטיים שכדאי להבין ההתקנה דורשת מקור חשמלי של 24 VDC עם חיבור קרקע טוב – יש לתכנן את ההיפרדות החשמלית מראש אם יש מכשירים רגישים להפרעות חשמליות בסביבה. החימום מגיע לטמפרטורה הרצויה במהירות, אך המסה התרמית משתנה בהתאם לוופר, כך שיש לבדוק את קצב העלייה בטמפרטורה בהתאם לוופר הספציפי.
אנו מספקים חיבורים סטנדרטיים לאינטגרציה, אך במקרים של חיבורים לא סטנדרטיים, ייתכן שיהיה צורך בהתקנות מיוחדות. אם תבצעו את ההתקנה כראוי, תקבלו ביצועים עקביים ופחות הפתעות בתהליך הייצור.