Op de productielijn is het proces na het reinigen het moment waarop de kwaliteit van de wafer binnen enkele minuten kan verslechteren. De wafer komt uit het reinigingsproces met nog steeds enige oneffenheden en vocht op het oppervlak. Als de temperatuur tijdens het vervolgende verhittingsschema ook maar iets te hoog of te laag is, blijft er nog steeds oplosmiddel achter, waardoor de hechting van de fotorezist verandert. Hierdoor wordt het moeilijk om de juiste afmetingen van de wafer vast te houden. We hebben daarom een infraroodverwarmer ontwikkeld die deze variabiliteit wegneemt.
Wat technisch gezien belangrijk is: De apparaat maakt gebruik van kortegolf-Infrarode stralers die zich bevinden in een kwartsversterkt module. Hierdoor wordt er snel warmte gegenereerd op het oppervlak van de wafer, zonder dat de hele kamer wordt verhit. De temperatuur blijft overal op de wafer binnen een marge van ±0,1°C, van 80°C tot 250°C. De reactietijd is minder dan 3 seconden, zodat de thermische condities goed onder controle blijven.
De compatibiliteit met schone werkruimtes is ingebouwd: er worden materialen gebruikt die voldoen aan de standaarden van klasse 1–100, de oppervlakken zijn elektropoliëerd en er is een afvoersysteem dat zorgt voor nul partikelvorming tijdens het proces. De controle vindt via een geschaald pyrometer plaats, zodat de kwaliteit van elke batch consistent blijft.
Waarom dit systeem werkt in de productie: Na het reinigen wordt de wafer in het apparaat geplaatst. De verwarmer zorgt voor de exacte temperatuur die nodig is voor het verhittingsschema. Hierdoor blijft de productiekwaliteit constant. De snelle opwarmtijd zorgt voor een kortere cyclusduur. De energieverbruik is aangepast aan de belasting, zodat het verbruik lager is dan bij systemen die gebruikmaken van warmteplaten.
Het apparaat is ontworpen om 24/7 te werken. Uit onderzoek blijkt dat er nauwelijks ongeplande stilstand is: minder dan 0,1% van de tijd. Dat betekent minder herwerkingen, een constante kwaliteit en een betrouwbare productie.
Wat je moet overwegen: Voor de installatie moet je rekening houden met de grootte van de afvoerpijpen en de spanning die nodig is voor het apparaat. Het apparaat is compact, maar er moet wel voldoende ruimte zijn rondom de stralers, zodat de luchtstroom goed kan stromen en de temperatuur stabiel blijft.
Het overdragen van de instellingen naar het apparaat is eenvoudig voor standaardprocedures. Voor speciale situaties kan het nodig zijn om de instellingen aan te passen, zodat ze geschikt zijn voor de specifieke behoeften van de wafer en de gereedschappen die worden gebruikt.