チップ上のラボ用乾燥ヒーター

ウェーハの製造工程において、リソグラフィーを行う前の乾燥工程は、歩留まりに大きな影響を与えます。フォトレジストの残留物や水分の問題、端の不具合などは、ほとんどの場合、プレートの温度変動や温度制御の不良、あるいは装置自体から発生する粒子に起因しています。私たちは、こうした問題を解決するために...